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RTEC 白光干涉儀+共聚焦一體機

簡要(yao)描述:該(gai)儀(yi)器具備轉盤式針(zhen)孔共聚焦和白光干涉兩(liang)種(zhong)光學(xue)測量(liang)技術,用(yong)于各(ge)(ge)(ge)種(zhong)材料(liao)(liao)/涂層/器件的高精度(du)(du)(du)表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)三維特征 測量(liang),能夠測量(liang)從粗(cu)糙的到光滑(hua)的,堅硬的到柔軟的,黏性的表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)以(yi)及各(ge)(ge)(ge)種(zhong)場合(he)下難于測量(liang)的表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian),適用(yong)于金屬(shu)材 料(liao)(liao)、非金屬(shu)材料(liao)(liao)、復(fu)合(he)材料(liao)(liao)、薄膜、涂層、器件等(deng)(deng)各(ge)(ge)(ge)種(zhong)各(ge)(ge)(ge)樣材料(liao)(liao)的表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)微觀結構(gou)特征的3D成(cheng)像,提供各(ge)(ge)(ge)種(zhong)粗(cu)糙度(du)(du)(du), 表(biao)(biao)面(mian)(mian)(mian)(mian)結構(gou)的臺階高度(du)(du)(du),角度(du)(du)(du)、體積、長(chang)度(du)(du)(du)、深(shen)度(du)(du)(du)等(deng)(deng)多種(zhong)數據的測試分析、相似特征的統計分析,輪(lun)廓提取等(deng)(deng)

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 產品資料(liao):
  • 更(geng)新時間:2023-12-14
  • 訪  問  量: 1267

詳細介紹

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高階(jie)軟件分析功(gong)


全套(tao)的分析功能


- 2D形(xing)貌、3D形貌、二進制圖(tu)(tu)像(xiang)、顯微圖(tu)(tu)像(xiang)、等高線圖(tu)(tu)像(xiang)


- 提(ti)取(qu)區域、提(ti)取(qu)剖(pou)面(mian)(mian)、抽取(qu)邊界輪廓、將一個表(biao)面(mian)(mian)轉換為(wei)一個剖(pou)面(mian)(mian)系列、重新取(qu)樣、基(ji)準面(mian)(mian)校平(ping)


- 表(biao)面紋理與形狀(zhuang)參數如各(ge)種標(biao)準的面粗(cu)糙度(du)(du)、線粗(cu)糙度(du)(du)、距(ju)離(li)&角(jiao)度(du)(du)測量、臺階高度(du)(du)、面面角(jiao)度(du)(du)差、方向&斜率

- 圖形&紋理單元的檢測分(fen)析、顆粒&凸起&凹洞&空隙等特征統計數據、分(fen)形分(fen)析、孔/磨痕的體(ti)積、波谷深度、理方向、體積參數(shu)、切片分析


- 可(ke)創建(jian)分析(xi)模板,只需導入(ru)數據文件(jian),自動(dong)生成測試(shi)報告


- 滿(man)足ISO 25178ISO 4287ASME B46.1EUR 15178ISO 16610-61ISO 16610-62ISO 16610-71


半導體方向的(de)應用-晶圓/芯片MEMS,Mask,PCB,Microlens,絕緣層等

① 各種減(jian)薄、研磨、拋光之后的(de)表面粗糙度、表面三(san)維形貌、加工紋(wen)理、瑕疵的(de)檢測


② 晶圓IC制造(zao)過(guo)程中各(ge)種微納結構的(de)三維(wei)形貌、臺階(jie)高度等三維(wei)尺寸、制造(zao)缺(que)陷的(de)檢測、以及光罩上的異(yi)物和(he)瑕(xia)疵(ci)檢測


③ 薄膜的(de)厚度(du)、表面粗糙度(du)及缺陷的(de)測量


④ 表面(mian)(mian)機械損(sun)傷、表面(mian)(mian)冗余物(wu)的檢測




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