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EVG光刻機
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研發和(he)小規模(mo)生產中(zhong)的單晶(jing)圓光(guang)刻(ke)膠(jiao)加工。$nEVG101光(guang)刻(ke)膠(jiao)勻膠(jiao)機在單室設計(ji)上(shang)可以滿足研發工作(zuo),與EVG的自動(dong)化系(xi)統*兼容(rong)。EVG101支持(chi)大(da)300 mm的晶(jing)圓,可配置為旋(xuan)涂或噴涂和(he)顯影。
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