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?新(xin)型IQ Aligner NT具有高(gao)強度(du)和(he)(he)高(gao)均(jun)勻度(du)的(de)曝光光學(xue)器(qi)件，新(xin)的(de)晶圓(yuan)(yuan)處理硬件，可實現全局多點對準的(de)200mm和(he)(he)300mm晶圓(yuan)(yuan)全覆蓋范圍以及(ji)優化(hua)的(de)工具軟件，從而使生(sheng)產率提(ti)高(gao)了2倍與EVG上一(yi)代IQ Aligner相(xiang)比，對準精度(du)提(ti)高(gao)了2倍。該系統(tong)(tong)超越了晶圓(yuan)(yuan)凸塊和(he)(he)其他后端(duan)光刻應(ying)用(yong)的(de)蕞苛刻要求，同時與競爭(zheng)系統(tong)(tong)相(xiang)比，擁有成本降低了30％。

EVG6200 NT掩(yan)模(mo)對(dui)準(zhun)光(guang)刻(ke)系統(tong) 特(te)色(se)：EVG ® 6200 NT掩(yan)模(mo)對(dui)準(zhun)器(qi)為(wei)光(guang)學雙(shuang)面光(guang)刻(ke)的多功能工(gong)具和(he)晶(jing)片尺寸高達200毫(hao)米。

IQ Aligner 自動(dong)掩模對準(zhun)(zhun)系統 用于(yu)(yu)自動(dong)非接觸近距(ju)離掩模對準(zhun)(zhun)光刻，進(jin)行了(le)處理(li)和優(you)化，用于(yu)(yu)晶(jing)圓(yuan)片(pian)的尺寸高達200毫米。

EVG單面/雙面掩模對準(zhun)光(guang)刻(ke)機(ji)EVG610（單面/雙面掩模對準(zhun)光(guang)刻(ke)機(ji) 微流控 納(na)米壓印(yin)）支持各種標準(zhun)光(guang)刻(ke)工藝，如真空，硬(ying)，軟接(jie)觸和(he)接(jie)近式(shi)曝光(guang)模式(shi)，可(ke)選擇背部對準(zhun)方式(shi)。此(ci)外，該系統(tong)還(huan)提供(gong)其(qi)(qi)他功能，包括(kuo)鍵合對準(zhun)和(he)納(na)米壓印(yin)光(guang)刻(ke)（NIL）。EVG610提供(gong)快速處理和(he)重新加工，以(yi)滿(man)足不斷(duan)變化(hua)的(de)用(yong)(yong)戶(hu)需求，轉換(huan)時間不到幾分(fen)鐘(zhong)。其(qi)(qi)先進的(de)多用(yong)(yong)戶(hu)概(gai)念適合初(chu)學者到專家級各個階層(ceng)用(yong)(yong)戶(hu)，非常適合大學和(he)研發應(ying)用(yong)(yong)。