一、產品特色

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統|接觸式光刻機提供國家的本(ben)領域掩(yan)模對準(zhun)技術在小化的占位(wei)面積，支(zhi)持(chi)高達150毫米晶圓尺寸(cun)。

二、技術數據

EVG620 NT以(yi)其多功(gong)(gong)能性和可(ke)靠性而著稱(cheng)，在小的(de)(de)(de)占位(wei)面積上結合(he)了(le)先進的(de)(de)(de)對準功(gong)(gong)能和優化的(de)(de)(de)總體擁有成(cheng)本，提供了(le)先進的(de)(de)(de)掩模(mo)(mo)對準技術(shu)。它(ta)是光學(xue)雙面光刻的(de)(de)(de)理想工具，可(ke)提供半自(zi)(zi)動或自(zi)(zi)動配置以(yi)及(ji)可(ke)選的(de)(de)(de)全覆蓋Gen 2解決方案(an)，以(yi)滿足大(da)批量生產要(yao)求和制造(zao)標準。擁有操作員友好型軟件(jian)，短的(de)(de)(de)掩模(mo)(mo)和工具更換時(shi)間以(yi)及(ji)高效的(de)(de)(de)球服務和支持，使它(ta)成(cheng)為任何制造(zao)環境的(de)(de)(de)理想解決方案(an)。

EVG620 NT或*容納的(de)(de)EVG620 NT Gen2掩模對(dui)準系統(tong)配(pei)備了集成的(de)(de)振動隔離功能，可(ke)在各(ge)種應用(yong)中實現出色的(de)(de)曝光(guang)效(xiao)果，例(li)如，對(dui)薄而厚的(de)(de)光(guang)刻膠進(jin)(jin)行曝光(guang)，對(dui)深(shen)腔進(jin)(jin)行構圖并形成可(ke)比的(de)(de)形貌，以及對(dui)薄而易碎的(de)(de)材料（例(li)如化合物半導體）進(jin)(jin)行加(jia)工(gong)。此外，半自(zi)動和全自(zi)動系統(tong)配(pei)置(zhi)均支持(chi)EVG專有的(de)(de)SmartNIL技術。

三、EVG620 NT-掩模對準光刻機系統特征

1、晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

2、系(xi)統設(she)計支持光(guang)刻工藝的(de)多功能性

3、易碎，薄或翹曲的(de)多種尺寸的(de)晶圓處理(li)，更換時間短

4、帶有間隔墊片的自動(dong)無(wu)接觸楔形(xing)補償序列

5、自動原點功能，用(yong)于(yu)對準鍵的確居(ju)中

6、具有實時偏移校正功(gong)能的動(dong)態(tai)對準功(gong)能

7、支持新的(de)UV-LED技術

8、返工分揀晶圓管(guan)理(li)和(he)靈活的盒式系統

9、自動化系統上(shang)的手(shou)動基板裝載功能

10、可(ke)以(yi)從半自動(dong)版(ban)本(ben)升級到全自動(dong)版(ban)本(ben)

11、小化系(xi)統占(zhan)地面積和設施要求

12、多(duo)用(yong)戶(hu)(hu)概(gai)念（無限數量的用(yong)戶(hu)(hu)帳戶(hu)(hu)和程序，可分配的訪問權限，不同的用(yong)戶(hu)(hu)界面語言）

13、先進的軟件功能以及研發與全面生產(chan)之(zhi)間的兼容性

14、便捷處理和轉換重組

15、遠(yuan)程技(ji)術支(zhi)持(chi)和SECS / GEM兼容(rong)性

四、附加功能

1.鍵對準

2.紅外對準

3.納米(mi)壓印(yin)光刻（NIL）

五、EVG620 NT技術數據

曝1、光源：

汞光源/紫外線LED光源

2、先進的對準功(gong)能：

手動對準/原位對準驗證

3、自動對準：

動態(tai)對準(zhun)(zhun)/自(zi)動邊緣對準(zhun)(zhun)

對準偏移校正算法

4、EVG620 NT產能(neng)：

全(quan)自(zi)動：一批生(sheng)產量：每小(xiao)時180片

全自動：吞吐量對準：每小(xiao)時140片晶圓

晶圓(yuan)直徑(jing)（基板尺寸）：高達(da)150毫米

5、對準方式：

上側對準：≤±0.5 µm

底側(ce)對準：≤±1,0 µm

紅外校(xiao)準(zhun)：≤±2,0 µm /具體取決于基(ji)材

鍵對(dui)準：≤±2,0 µm

NIL對(dui)準：≤±3.0 µm

6、曝光設定：

真(zhen)空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模(mo)式(shi)/彎曲模(mo)式(shi)

7、楔形補償：

全自動軟件控制

8、曝光選項：

間隔曝(pu)光(guang)/洪水曝(pu)光(guang)/扇區曝(pu)光(guang)

六、系統控制

1、操作系統：

Windows

文件(jian)共享和備份(fen)解決方(fang)案/無限制 程序和參(can)數(shu)

2、多語言用(yong)戶GUI和支持：

CN，DE，FR，IT，JP，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

3、工業自動化功能：

盒式磁(ci)帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹(qiao)曲，邊(bian)緣晶(jing)圓處理

納米壓印光刻(ke)技術(shu)：SmartNIL