Thetametrisis膜厚測量儀

簡要描(miao)述：Thetametrisis膜厚測(ce)量(liang)儀FR-pRo是一個模(mo)塊化和可擴(kuo)展平臺的(de)(de)光學測(ce)量(liang)設備(bei)，用于(yu)表征(zheng)厚度(du)范圍為1nm-1mm 的(de)(de)涂層。

產品型號：FR-pRo
廠商性(xing)質：代理商
產品(pin)資料(liao)：
更新(xin)時間：2023-12-14
訪問量(liang)： 3487

產品咨詢聯系我們

產品分類

Product Category

詳細介紹

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述：

FR-pRo膜(mo)厚儀(yi): 按需搭(da)建的薄膜(mo)特性表征工具(ju)。

FR-pRo膜厚(hou)儀是一個模(mo)塊化和可擴展平臺的(de)光學(xue)測量設備，用于表征(zheng)厚(hou)度范圍(wei)為(wei)1nm-1mm 的(de)涂層。

FR-pRo膜厚(hou)儀是為客戶量(liang)身定制的，并(bing)廣泛應用(yong)于各(ge)種不同(tong)的應用(yong)。

比如：

吸收率/透射率/反射率測量，薄膜特性在(zai)溫度和環(huan)境控制下(xia)甚至在(zai)液(ye)體環(huan)境下(xia)的(de)表征等(deng)等(deng)…

Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用(yong)：

1、大學&研(yan)究(jiu)實驗室

2、半導體行業

3、高分子聚(ju)合(he)物&阻抗(kang)表征

4、電(dian)介質特性表征

5、生(sheng)物醫學

6、硬(ying)涂層，陽極氧化(hua)，金屬零件加工(gong)

7、光學(xue)鍍膜

8、非金屬(shu)薄膜等等…

FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝(zhuang)配(pei)模塊，核(he) 心部件包括光源，光譜(pu)儀（適用于 200nm-2500nm 內的任(ren)何(he)光譜(pu)系統）和(he)控制單元(yuan)，電子通訊模塊。

此外，還有各(ge)種(zhong)各(ge)種(zhong)配(pei)件，比如(ru):

1.用于測量吸收率/透(tou)射率和化學濃(nong)度(du)的薄膜/試管(guan)架；

2.用于(yu)表征涂層(ceng)特性的薄膜厚度(du)工具；

3.用于控制溫度或(huo)液體環境下測量的加熱裝(zhuang)置(zhi)或(huo)液體試(shi)劑盒；

4.漫反射(she)和全反射(she)積(ji)分球。

通過不同模塊組合，蕞終(zhong)的配置可以(yi)滿足(zu)任何終(zhong)端用戶的需求(qiu)。

Specificatins 規(gui)格(ge)：

Model	UV/Vis	UV/NIR -EXT	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D Vis/NIR	NIR
光譜范(fan)圍 (nm)	200 – 850	200 –1020	200-1100	200 – 1700	370 –1020	370 – 1700	900 – 1700
像素	3648	3648	3648	3648 & 512	3648	3648 & 512	512
厚度范(fan)圍(wei)	1nm – 80um	3nm – 80um	1nm – 120um	1nm – 250um	12nm – 100um	12nm – 250um	50nm – 250um
測量n*k 蕞小范圍(wei)	50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm
準確度,*	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	1nm or 0.2%	2nm or 0.2%	3nm or 0.4%
精度(du),*	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.1nm
穩(wen)定性,*	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.05nm	0.15nm
光源	氘燈(deng) & 鎢鹵(lu)素(su)燈(deng)(內置(zhi))				鎢(wu)鹵素(su)燈(內置)
光斑(ban) (直徑)			350um (更小光斑可根據要求選配)
材料(liao)數據庫(ku)				> 600 種不同材料

Accessries 配件：

電腦(nao)	19 英寸(cun)屏幕(mu)的筆記本電(dian)(dian)腦/觸摸(mo)屏電(dian)(dian)腦
聚焦(jiao)模塊	光學聚(ju)焦模塊(kuai)安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um
薄膜/比色皿容器	在標準器(qi)皿中(zhong)對薄膜或液體的(de)透射率測量
接觸式探頭	用于涂層厚度測量(liang)和(he)光(guang)學測量(liang)的配件，適用于彎曲表面和(he)曲面樣品
顯微鏡(jing)	用于高橫向分辨(bian)率(lv)(lv)的(de)反(fan)射(she)率(lv)(lv)及厚度顯微測量
Scanner (motorized)	帶有圓晶卡盤的(de)Polar（R-Θ）或(huo) Cartesian（X-Y）自動化樣品臺可選，Polar（R-Θ）樣品臺支持反射(she)(she)率測量，Cartesian（X-Y）樣品臺支持反射(she)(she)率和透射(she)(she)率測量
積分(fen)球	用于表(biao)(biao)征涂層和表(biao)(biao)面的鏡面反射和漫反射
手動 X-Y 樣品臺	測量面積為 100mmx100mm 或(huo) 200mmx200mm 的x - y 手動(dong)平臺
加熱模塊	嵌入FR-tool 中，范圍由室(shi)溫~200oC，通(tong)過FR-Monitor 運行可(ke)編程溫控(kong)器(0.1 oC 精度).
液體模塊	聚四氟乙(yi)烯容器，用于通(tong)過石英光學(xue)窗口測量在(zai)液體(ti)中的樣品(pin)。樣品(pin)夾具，用(yong)于將樣(yang)品插入可處理 30mmx30mm 樣(yang)品的(de)液(ye)體中(zhong)
流通(tong)池	液體中吸(xi)光率、微(wei)量熒光測量

工作原理：

白光(guang)反射(she)光(guang)譜(WLRS)是(shi)測(ce)量垂直于樣(yang)品(pin)表(biao)面(mian)的某一波段的入射(she)光(guang)，在經多層(ceng)或單層(ceng)薄膜反射(she)后，經界面(mian)干涉產生(sheng)的反射(she)光(guang)譜可確定單層(ceng)或多層(ceng)薄膜（透明(ming)，半透明(ming)或全反射(she)襯底）的厚度及 N*K 光(guang)學(xue)常數。

* 規格如(ru)有(you)更(geng)改，恕不另行通知; ** 厚(hou)度測(ce)量(liang)范圍即代表(biao)光譜范圍，是基(ji)于在(zai)高反射襯底折射率為 1.5 的單層(ceng)膜測(ce)量(liang)厚(hou)度。