納米壓印光刻系統

簡(jian)要描述：納(na)米壓印(yin)支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和(he)接近曝光模式，并可選(xuan)擇背面對(dui)準。此(ci)外，該(gai)系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵(jian)對(dui)準和(he)納(na)米壓印(yin)光刻（NIL）。

產品(pin)型號：EVG610
廠商性質：代理商
產品資料：
更新(xin)時間(jian)：2023-12-20
訪問量(liang)： 3504

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該設備支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。

EVG610提供快速的(de)處理和重新安(an)裝(zhuang)工(gong)具，以改(gai)變用戶需求，光刻和NIL之(zhi)間的(de)轉換時間僅(jin)為(wei)幾分(fen)鐘。其先進的(de)多用戶概念可以適應(ying)從(cong)初學者到專家級(ji)別的(de)所有(you)需求，因此使其成為(wei)大學和研(yan)發應(ying)用程序的(de)理想選擇。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。

納米壓印機技術數據：

1) 晶圓直徑（基板尺寸）

2) 標準光刻：碎片蕞大150毫米

3) 柔軟的UV-NIL：蕞大150毫米的碎片

4) 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

5) 支持流程：柔軟的UV-NIL

6) 曝光源：汞光源或紫外線LED光源

7) 自動分離功能：不支持

8) 工作印章制作：外部

納米壓印機特征：

1) 頂部和底部對準能力

2) 高精度對準臺

3) 自動楔形誤差補償機制

4) 電動和配方控制的曝光間隙

5) 支持新的UV-LED技術

6) 蕞小化系統占地面積和設施要求

7) 分步流程指導

8) 遠程技術支持

9) 多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和配方，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

納米壓印機主要應用：

具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統，支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。

附加功能：

1) 鍵對準

2) 紅外對中

3) 納米壓印光刻

4) 微接觸印刷

納米壓印工藝結果：

圖1 微(wei)鏡頭(tou)

圖2 納米壓印結果（100納米分辨率）

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